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서울캠퍼스도핑 프로파일 측정기 Electrochemical Capacitance-Voltage
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제조회사 WEP 구입년도 모델명 WAFER PROFILER CVP21 지원기관 에너지-반도체 연구센터 교육이수여부 필수 장비위치 창의관 620호
상세정보 장비분류 장비교육필요 용도 wafer doping concentration 측정가능 규격 2inch 이상, 8inch 이하 샘플 측정가능 유의사항/비고 ECV-Profiling, CV-Profiling 측정할 수 있음, 도핑농도가 10^13이상, 10^21이하 샘플 측정가능 담당자 태** (audtjq03@korea.ac.kr) 이용정보 연속사용시간 24 시간 예약가능기간 교내소속 : 당일 0 일 전부터 30 일 전까지
교내타소속 : 당일 0 일 전부터 30 일 전까지
교외 : 당일 7 일 전부터 30 일 전까지예약취소가능기한 교내소속 : 0 일전 까지
교내타소속 : 0 일전 까지
교외 : 7 일전 까지예약가능시간 교내소속 : 00시 00분 ~ 23시 50분
교내타소속 : 00시 00분 ~ 23시 50분
교외 : 09시 00분 ~ 18시 00분점심시간 없음 사전작업필요여부 필요 -