고려대학교 공동기기원

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상세정보
장비분류	NT/IT 장비
용도
규격	반도체 제작 공정 중 포토마스크 (Photo mask)상에 설계된 패턴을 감광제 (photo resist)를 사용하여 웨이퍼 (wafer)상에 구현하는 포토리소그래피 (Photolithography) 공정에 필요한 마스크 정렬 노광장치 Type : Fully manual (Mask Aligner) Mask size : up to 5" x 5" Substrate size : piece to 4" dia UV lamp & Power : 350W & power supply Uniform beam size : 4.25" x 4.25" Beam Uniformity : <±3% Beam wavelength : 350 ~ 450nm 365nm Intensity : ~30mW/cm2 Alignment accuracy : 1um Process resolution : 1um@1um PR thickness with vacuum contact Process mode : Soft, Hard, Vacuum contact & Proximity Substrate chuck moving : x,y,z & θ
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담당자	최** (010-2797-3212)

이용정보
연속사용시간	3 시간	예약가능기간	교내소속 : 당일 0 일 전부터 30 일 전까지 교내타소속 : 당일 0 일 전부터 30 일 전까지 교외 : 예약불가
예약취소가능기한	교내소속 : 1 일전 까지 교내타소속 : 1 일전 까지 교외 : 예약불가	예약가능시간	교내소속 : 00시 00분 ~ 23시 50분 교내타소속 : 00시 00분 ~ 23시 50분 교외 : 예약불가
점심시간	없음	사전작업필요여부	필요없음

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